無掩膜直寫光刻機(jī)
- 制造廠商：Heidelberg Instruments
- 購置日期：暫無信息
- 型號：DWL 66+
- 生產(chǎn)國別：德國
- 儀器類別：工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備
- 安放地址：上海市
跨區(qū)域科技政策：
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上海
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- 儀器詳情
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系統(tǒng)具有高度的靈活性, 不僅可在敷圖有光刻膠的任何平面襯底上進(jìn)行圖形制備，還適用于掩模版加工。具有矢量與光柵掃描曝光兩種模式，可執(zhí)行的文件具有多種文件格式，還可用于三維結(jié)構(gòu)的加工制備。具有背面套刻功能。
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暫無信息
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光源：405nm或375nm的二極管激光器；基板尺寸：變量：3x3mm2至9"x9"（可根據(jù)要求定制）；基板厚度：0至12毫米；最大曝光面積：200x200平方毫米；分辨率：150nm；溫控流箱：溫度穩(wěn)定性±0.1°，ISO 4環(huán)境；實(shí)時自動對焦：光學(xué)自動對焦或氣壓計自動對焦；自動對焦補(bǔ)償范圍：80微米；標(biāo)準(zhǔn)或高級灰度模式：分別為128/255灰度；矢量模式：允許免拼接線直寫；背面對齊（可選）：允許將曝光對準(zhǔn)基板背面的結(jié)構(gòu)。
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電子與通信技術(shù)
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制版
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中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
機(jī)構(gòu)介紹:
上?？茖W(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所原名中國科學(xué)院上海冶金研究所，是中國科學(xué)院所屬以信息微系統(tǒng)技術(shù)的研究與開發(fā)為主的高技術(shù)研究所，主要研究領(lǐng)域包括微電子機(jī)械系統(tǒng)、傳感器技術(shù)、無線信息網(wǎng)絡(luò)、射頻與微波模塊、光電子器件、生物芯片、新型電池技術(shù)等。該所以國家需求為導(dǎo)向，圍繞“電子科學(xué)與技術(shù)”、“信息與通信工程”兩大新的學(xué)科方向，利用本所在功能材料與器件研究方面的積累和微電子平臺工藝技術(shù)為支撐，以“小衛(wèi)星、微系統(tǒng)技術(shù)平臺”兩個重大項(xiàng)目為依托，以系統(tǒng)帶器件、器件帶材料、加強(qiáng)原始創(chuàng)新，加強(qiáng)關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新與集成研究，開展集成微光機(jī)電系統(tǒng)、天地一體化通信技術(shù)與系統(tǒng)，信息功能材料與器件、微型和新型能源技術(shù)與系統(tǒng)等研究活動。中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所。
資質(zhì)能力：
