化學(xué)機械拋光設(shè)備（CMP）
- 制造廠商：應(yīng)用材料
- 購置日期：2012-12-20
- 型號：Mirra Mesa
- 生產(chǎn)國別：美國
- 儀器類別：工藝實驗設(shè)備
- 安放地址：上海市
跨區(qū)域科技政策：
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上海
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- 儀器詳情
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用于半導(dǎo)體集成電路制造中銅、阻擋層及介質(zhì)的平坦化處理
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暫無信息
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暫無信息
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RR Non-uniformity Within-wafer <5%, 1σ head-to-head <5.0%, 1σ Concentricity <0.15mm Throughput:>30pcs/hour No Corrosion No Cu Residue
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電子與通信技術(shù)
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銅及阻擋層、介質(zhì)平坦化
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暫無信息
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暫無信息
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500
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30
上海集成電路研發(fā)中心有限公司
機構(gòu)介紹:
研發(fā)中心保持以發(fā)展與中國集成電路產(chǎn)業(yè)相適應(yīng)的應(yīng)用技術(shù)為主線，通過與產(chǎn)業(yè)界協(xié)調(diào)發(fā)展的方式獲得持續(xù)發(fā)展能力。主要業(yè)務(wù)功能包括：（1）先進工藝技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用，為集成電路制造企業(yè)提供先進工藝研發(fā)和驗證的公共平臺，為高校和科研院所提供先進的新技術(shù)研究基地；（2）為國內(nèi)企業(yè)提供技術(shù)來源及知識產(chǎn)權(quán)保護的共同支撐；（3）為國內(nèi)設(shè)計企業(yè)產(chǎn)品開發(fā)提供特色工藝模塊和IP核；（4）為國內(nèi)設(shè)備和材料企業(yè)提供先進工藝設(shè)備和新材料的展示、評價、中試及配套工藝技術(shù)開發(fā)；（5）為集成電路企業(yè)、高校和科研院所提供人才培養(yǎng)和實習(xí)的實訓(xùn)基地。 研發(fā)中心堅持“以國際化合作建立基礎(chǔ)、以產(chǎn)學(xué)研結(jié)合集聚資源、以市場化運作獲取發(fā)展”，與一批國際著名半導(dǎo)體廠商、研究機構(gòu)保持著緊密的合作關(guān)系。研發(fā)中心已經(jīng)擁有開放式8英寸和12英寸芯片工藝技術(shù)研發(fā)平臺，并正在建設(shè)一條具有國際先進水平的集成電路先進工藝引導(dǎo)線，成為國內(nèi)最先進的可與生產(chǎn)線匹配的共性工藝研發(fā)平臺。目前，研發(fā)中心已經(jīng)成為國家發(fā)改委集成電路設(shè)計服務(wù)平臺、上海市集成電路技術(shù)創(chuàng)新服務(wù)平臺、上海市集成電路制造設(shè)備和工藝材料工程化應(yīng)用工程技術(shù)研究中心。研發(fā)中心擁有一支優(yōu)秀的技術(shù)人才團隊，并秉承“創(chuàng)新、高效、堅韌、跨越”的文化理念，正在逐步打造成為一流的集成電路公共研發(fā)機構(gòu)，以推動中國集成電路產(chǎn)業(yè)持續(xù)快速發(fā)展。
資質(zhì)能力：
